Фтористоводнева кислота електронного-класу — це прозора, безбарвна, корозійна рідина, яка використовується для очищення та травлення сонячних фотоелектричних елементів, інтегральних схем і дуже{1}}великомасштабних-схем інтеграції (VLSI). Це важлива базова хімічна сировина для електронної та інформаційної промисловості, яку часто називають «хімічним ключем».
З безперервним розширенням графічних процесорів штучного інтелекту, пам’яті високої пропускної здатності (HBM) і вдосконалених логічних мікросхем споживання фтористоводневої кислоти високої-електронної-класу високої чистоти на одну пластину зростає, що робить її життєво важливим стратегічним матеріалом у ланцюжку постачання напівпровідників штучного інтелекту.
Завдяки зростанню цін на сировину та зростанню попиту на напівпровідники зі штучним інтелектом світова пропозиція фтористоводневої кислоти електронного -класу скорочується. Деякі великі постачальники послідовно підвищували ціни на продукцію, із загальним зростанням приблизно на 20%–30%.
За даними ТайванюЕкономічні щоденні новини, галузеві джерела повідомляють, що TSMC, Samsung і SK Hynix намагаються забезпечити поставки фтористоводневої кислоти електронного -класу. Тим часом південнокорейське ЗМІTheElecРаніше повідомлялося, що близько 90% безводної фтористоводневої кислоти, яка використовується південнокорейськими компаніями з виробництва напівпровідникових матеріалів, імпортується з Китаю.
У природі існує понад 150 фторовмісних-мінералів, але фтор, який зараз розробляється та використовується людьми, походить переважно з флюориту. Флюорит-кристалічний фторид кальцію-є основним джерелом хімічного фтору та служить відправною точкою для ланцюга фторхімічної промисловості, яку часто називають «золотою промисловістю».
У промисловості флюорит взаємодіє з сірчаною кислотою з утворенням безводного фтористого водню (AHF), який потім очищають, конденсують і додатково очищають, щоб отримати фтористоводневу кислоту високої-чистоти. Продуктивність інтегральних схем тісно пов’язана з якістю фтористоводневої кислоти електронного-класу; його чистота і чистота безпосередньо впливають на якість, рівень інтеграції, конкретні технічні характеристики та продуктивність інтегральних схем.
У міру просування 3-нм/2-нм технологічних вузлів шари стека HBM продовжують зростати, а глобальні витрати на обладнання для виробництва 300-міліметрових пластин перевищують 400 мільярдів доларів США протягом трьох років-кожна пластина споживає дедалі більше-фтористоводневої кислоти високої чистоти. Дефіцит поставок відкриває вікно для вітчизняних китайських підприємств, і стратегічне значення флюориту стає все більш очевидним.